キヤノンが最新の露光装置を発売しました。
5nmのプロセスルールに対応とのことで、従来はEUV露光方式でないと7nm以下は製造できず、EUV露光装置はオランダのASML社しか製造していません。
EUV露光装置の登場前まではキヤノンやニコンが露光装置でもシェアを持っていたのですが、現在はASML社一強という状態です。
今後マスクの改良により2nmにも対応できるとのことなので、ラピダス（Rapidus）にも採用されるのではないでしょうか？
ちなみにナノインプリント技術はDNPやキオクシアとの共同開発の様ですね
ぜひともキヤノンには頑張ってもらいたいものです。
